उच्च प्रदर्शन वैक्यूम वाल्व

वैक्यूम वाल्व एक ऐसा उपकरण है जो वैक्यूम सिस्टम की आपूर्ति या निकास लाइन में लगाया जाता है। इसका उपयोग आमतौर पर प्रक्रिया कक्षों जैसे वैक्यूम क्षेत्रों को अलग करने या आने वाली और बाहर जाने वाली गैस की मात्रा को नियंत्रित करने के लिए किया जाता है। वैक्यूम वाल्व को मैन्युअल रूप से, वायवीय रूप से, इलेक्ट्रोप्यूमेटिक रूप से, विद्युत रूप से या विद्युत चुम्बकीय रूप से संचालित किया जा सकता है। वैक्यूम वाल्व किसी भी वैक्यूम सिस्टम का एक अभिन्न अंग हैं और वैक्यूम सिस्टम का उपयोग औद्योगिक उत्पादन अनुप्रयोगों की एक विस्तृत विविधता में किया जाता है।

कुछ वैक्यूम प्रक्रियाएं प्रक्रिया पर्यावरण की शुद्धता के साथ-साथ रासायनिक और भौतिक स्थिरता पर विशेष रूप से उच्च मांग रखती हैं। यह, उदाहरण के लिए, अर्धचालक उत्पादन के लगभग सभी क्षेत्रों के साथ-साथ कई शोध सुविधाओं पर लागू होता है जहां वैक्यूम सिस्टम का उपयोग किया जाता है। प्राथमिक अनुसंधान के क्षेत्र में, बहुत अधिक या कम तापमान, मजबूत विकिरण और 10-15 mbar तक के दबाव के साथ अत्यधिक उच्च वैक्यूम (XHV) जैसी चरम स्थितियों से निपटने की क्षमता - जो वर्तमान में तकनीकी रूप से व्यवहार्य और मापने योग्य है - अक्सर इन आवश्यकताओं में जोड़ दी जाती है।

इन अनुप्रयोगों में वैक्यूम वाल्व मानक वैक्यूम वाल्व से निम्नलिखित मामलों में भिन्न होते हैं:

न्यूनतम कण उत्सर्जन

उच्च प्रदर्शन वाले वैक्यूम वाल्व को इस तरह से अनुकूलित किया जाता है कि वे अपने आवास, यांत्रिकी या सील के लिए सामग्री के माध्यम से कणों को न छोड़ें, न ही उनके खुलने और बंद होने या घर्षण द्वारा आंदोलनों को नियंत्रित करने के माध्यम से। यह उपयोग की जाने वाली सामग्रियों के विशेष चयन और उपचार द्वारा प्राप्त किया जाता है, और कुछ डिज़ाइन विवरणों द्वारा जो कणों के निकलने को कम से कम या, कुछ मामलों में, पूरी तरह से समाप्त कर देते हैं।

न्यूनतम गति स्पंदन

प्रत्येक वाल्व अपने खुलने और बंद होने की गतिविधियों के माध्यम से गति स्पंदन उत्पन्न करता है। स्वचालित रूप से संचालित वाल्वों के मामले में, ये मामूली कंपन से लेकर श्रव्य और बोधगम्य कठोर प्रभावों तक हो सकते हैं। ये गति स्पंदन संवेदनशील विनिर्माण प्रक्रियाओं पर नकारात्मक प्रभाव डाल सकते हैं, उदाहरण के लिए अतिरिक्त कण रिलीज के माध्यम से। डिज़ाइन सुविधाओं के अलावा, उच्च-प्रदर्शन वैक्यूम वाल्व मुख्य रूप से तथाकथित गति प्रोफाइल में गति को नियंत्रित करके इन आवेगों को कम करते हैं। यात्री लिफ्टों के संचालन के तरीके के समान, "हिटिंग" को रोकने के लिए समापन बिंदु तक पहुँचने से कुछ समय पहले समापन गति धीमी हो जाती है। इन गति प्रोफाइल को आमतौर पर संशोधित किया जा सकता है ताकि, उदाहरण के लिए, उन्हें बंद होने के समय और बंद होने की आवृत्ति के संदर्भ में वांछित स्थितियों के अनुकूल बनाया जा सके।

तटस्थ रासायनिक और भौतिक व्यवहार

वैक्यूम वाल्व हमेशा वैक्यूम प्रक्रिया कक्ष की समरूपता को बदलते हैं, चाहे वह किसी भी रूप में हो। यह आंशिक रूप से उनकी ज्यामिति के परिणामस्वरूप होता है। प्रवाह पथ में संकीर्णता या चौड़ाई प्रवाह प्रतिरोध और प्रवाह वेग को बदल सकती है, या वाल्व प्लेट के लिए यात्रा स्थान जैसे मृत स्थान, जमाव प्रक्रियाओं को बढ़ावा दे सकते हैं। यह खुलने और बंद होने की गति के माध्यम से भी होता है, जो प्रवाह व्यवहार के साथ-साथ प्रक्रिया गैसों की सांद्रता, वितरण, मिश्रण और तापमान को भी बदल देता है। उच्च-प्रदर्शन वाले वैक्यूम वाल्व ऐसे प्रभावों की भरपाई करने के लिए अनुकूलित होते हैं जहाँ भी संभव हो या उन्हें नियंत्रित करने योग्य बनाया जा सके। इस उद्देश्य के लिए, डिज़ाइन में कई अतिरिक्त तकनीकें शामिल की जाती हैं जो मूल वाल्व कार्यों जैसे कि खोलना और बंद करना या नियंत्रण से कहीं आगे जाती हैं।

सटीक रूप से पुनरुत्पादनीय व्यवहार

उच्च-प्रदर्शन वाले वैक्यूम वाल्व मुख्य रूप से अपने अत्यधिक पुनरुत्पादनीय व्यवहार में मानक समाधानों से भिन्न होते हैं। इसका मतलब यह है कि जबकि मानक समाधान प्रत्येक व्यक्तिगत उद्घाटन और समापन आंदोलन में उतार-चढ़ाव प्रदर्शित करते हैं और उपयोग की अवधि में उनके परिभाषित प्रदर्शन मूल्यों से विचलन दिखाते हैं, उच्च-प्रदर्शन वाले वैक्यूम वाल्व हमेशा उपयोग के लंबे अंतराल पर बहुत संकीर्ण सीमाओं के भीतर परिभाषित एक ही व्यवहार को प्रदर्शित करने के लिए अनुकूलित होते हैं। इसका मतलब यह है कि वे वैक्यूम प्रक्रियाओं को स्थिर करते हैं और प्रक्रिया नियंत्रण जटिलता को कम करते हैं।

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